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線繞式電子水處理器
時(shí)間:2019-09-11 02:56:15        點(diǎn)擊量:1629次

一、  廣譜感應(yīng)器的應(yīng)用原理

成垢因素:

1、 飽和溶解度
如果水的溶解度沒有超過飽和溶解度,即使在水質(zhì)較硬的地區(qū)管道也不會(huì)結(jié)垢。如果水溶液未達(dá)到飽和溶解度或在平衡飽和度,垢也不會(huì)生成。相反的,如果超過飽和溶解度,“軟水”也會(huì)結(jié)垢。
2、  PH值
水的飽和溶解度是由PH值確定的水的酸性(反過來說也就是堿性)所決定。
PH值越小,水的酸性就越大,溶解度就越大;PH值越大,水的酸性就越小,飽和溶解度就越小,水中可溶解的礦物質(zhì)就越少。
加熱、減壓及添加化合物都可增大PH值。
3、 壓力和溫度
循環(huán)系統(tǒng)(如:冷卻塔、鍋爐、水處理系統(tǒng)等)隨著溫度的升高和壓力的降低將同時(shí)導(dǎo)致溶液過飽和及PH值升高。PH值增大,水中可溶解的礦物質(zhì)就會(huì)減少,這些無法溶解的礦物質(zhì)就會(huì)形成沉淀,產(chǎn)生結(jié)垢。
4、 添加劑的注入
在工業(yè)處理過程中須向溶液中添加石灰等堿性物質(zhì),這將導(dǎo)致:
1)PH值增大    和/或    2)溶液過飽和。
以上均可稱為“成垢因素”
廣譜感應(yīng)器的作用
      以碳酸鈣(鎂)為例,本技術(shù)同樣適用于硫酸鹽和硅酸鹽等。
碳酸鈣(鎂)晶體在水中有兩種存在形式,一種是方解石(見圖1),它的粘附性很強(qiáng),晶體顆粒較大;另外一種是文石(也稱為霰石,見圖2),它的粘附性很弱,晶體顆粒較小。
結(jié)垢:當(dāng)水中的礦物質(zhì)含量超過其飽和溶解度時(shí),鈣(鎂)離子和酸根離子(統(tǒng)稱成垢離子)就會(huì)析出形成方解石并粘附在器壁上生成水垢,同時(shí)水垢也在不斷的溶解成離子重新回到溶液中;當(dāng)離子析出形成水垢的速度快于水垢溶解成離子的速度時(shí),垢層厚度逐漸增長;當(dāng)二者速度相等時(shí),垢層厚度不再增長,反之垢層厚度逐漸減少。
防垢:英格瑪數(shù)字除垢器通過主機(jī)在水中產(chǎn)生一個(gè)頻率、強(qiáng)度都按一定規(guī)律變化的感應(yīng)電磁場(chǎng)。該電磁場(chǎng)使水中的成垢離子結(jié)合成大量的文石晶核,當(dāng)水中礦物質(zhì)含量超過水的飽和溶解度時(shí),成垢離子就會(huì)析出并優(yōu)先生長在這些晶核上形成文石晶體,這樣向器壁上析出水垢的趨勢(shì)被轉(zhuǎn)化成向懸浮在水中的大量文石晶核上析出形成文石晶體,這些文石晶體的粘附性很弱,呈松軟絮狀,懸浮在水中,很容易被水流沖走, 這樣就達(dá)到了防垢的目的。
除垢:原來器壁上的垢仍在不斷的向水中溶解, 在英格瑪?shù)淖饔孟?成垢離子向器壁上的析出變成向懸浮在水中的大量文石晶核上析出,即大量的文石晶體析出取代了方解石晶體析出,原水垢逐漸溶解,由于溶解速度不均,垢會(huì)變得疏松并脫落,被水流沖走。
活化作用:該電磁場(chǎng)同時(shí)破壞了水分子間的氫鍵,水的大分子團(tuán)被打碎,形成了大量的小水分子團(tuán),水的表面張力降低,水的活性增強(qiáng),水的溶解度提高,滲透力增強(qiáng)。
殺菌機(jī)理:水垢是細(xì)菌的滋生地,清除了水垢,也就清除了細(xì)菌的滋生地;并且水中的感應(yīng)電場(chǎng)破壞了細(xì)菌的細(xì)胞壁,使其難以生存;處理后的水溶解能力提高,水中溶氧量會(huì)提高,會(huì)限制厭氧菌的生成。
      除銹防蝕機(jī)理:水銹在感應(yīng)電磁場(chǎng)的作用下被清除后,在水管內(nèi)壁形成一層金屬氧化膜,這層氧化膜會(huì)阻止新的水銹生成。


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